硬化类型

我们有了硬化　当硬化的类型　注释

硬化类型

祖布淬火

获得表面和内部的均匀硬度。(真空、盐淬火等）又称整体淬火。

空气淬火

低成本、最基本的结构，使用正常气氛（空气）进行燃烧；由于氧化和脱碳，不适合特殊钢。

大气硬化

根据用途调整大气气体 大气气体通常是惰性气体。(防止氧化和脱碳）

盐浴淬火

处理后的产品浸入盐浴中加热，然后在低温盐浴中淬火。热处理方法是马氏体回火，不太可能发生氧化和脱碳。

真空硬化

在真空中淬火，以高光泽脱气，并在炉中排出大气，在真空炉中进行热处理，以便在不氧化和脱碳的情况下进行冷却，使用氮气，用于模具和零件等比材料更接近完工的物体。

表面硬化

硬度可在距表面几微米到几毫米的范围内获得。(渗碳、氮化、高频等）。

渗碳和淬火

它在淬火工业中占有 40% 的份额，而且价格低廉。一般情况下，碳从钢材表面扩散固溶，通过对整个表面进行淬火，只对表面进行淬火。渗碳深度为 0.8-1.0 毫米、内部柔软，表面坚硬。　极强的抗冲击性

低碳钢也可以渗碳和淬火。(如 SCM420）。　如果用于含碳量较高的钢材，它们会变得过碳和易碎。炉内气氛中碳含量高会导致渗碳。金属含碳量高会导致脱碳。(含量正常化）。

固态渗碳和淬火

以木炭为主要原料，加入渗碳材料，将产品密封，然后在 900°C - 1000°C 下加热。淬火 → 淬火后进行回火半热处理，使浸泡后的产品均匀化。

液体渗碳和淬火

在盐浴中渗碳，然后进行油淬火。渗碳和氮化的一种方法，因为氮化与渗碳同时进行。　(衰退）由于防渗碳剂溶入盐浴中，因此无法进行渗碳。变形小，交货快，目前为注重成本的公司所采用。

气体渗碳和淬火

在炉内渗碳气体气氛气化中加热工件，使碳扩散。　(当前主流）适合批量生产，可实现自动化，易于质量控制，成本相对较低，渗碳深度可自由调节。

真空渗碳和淬火

高温处理时间短，不易在表面形成不完全硬化层，可对复杂形状进行渗碳处理，可对不锈钢（备受关注）进行渗碳处理。与气体渗碳相比，渗碳过程没有变化。自由度高，成本高。

等离子渗碳淬火

处理时间短（约为气体渗碳的一半），可对钛和 SUS 进行渗碳处理，渗碳层易于控制（引人注意 在放电产生的等离子体中，离子通过电化学作用作用于表面进行渗碳。低温处理、低变形、时效硬化而不损失耐腐蚀性。用于航天领域。

高频淬火

高频淬火　通过连接到高频电源的加热线圈中的电流，利用焦耳热对钢材进行加热。加热后的工件通过水或冷却剂（如抗裂剂）快速冷却进行淬火和硬化。　自由度高，可进行局部或表面硬化，深度可控。　加热和冷却速度快，因此加热时间短。因此，尺寸变化不大。线圈由手工制造。(需要熟练人员）。

好处

• 表面硬度高，耐磨性极佳
• 高表面压缩残余应力和出色的疲劳强度
• 出色的延展性和韧性以及精细的结构
• 减少流离失所

赏罚

• 由于加工时间短，细微的变化都会对质量产生重大影响。
• 线圈由工匠制作，但工匠的数量正在减少。
• 凹面区域温升不足，凸面区域温度过高。
• 小于 6 毫米的区域很难处理，因为可能会融化。

几种类型的高频淬火

• 低频：深层慢热，硬化层较深。
• 中波层：中级
• 高频：加热浅而快，仅表面坚硬
• 有效固化深度 1 毫米，固化层总深度 2 毫米

氮化

氮如何与钢中的合金元素发生反应，形成坚硬的氮化物，从而硬化表面。氮化　他说。

低温处理的目的。

其目的是将原子精确排列。在许多声学元件中使用。即使经过很长时间，也可以进行低温处理。不必立即进行。

气相沉积法

通过形成与钢表层紧密接触的化合物，赋予钢耐磨和耐腐蚀等性能的方法。镀层，电镀技术的一种。

CVD：C（化学）V（蒸气）D（沉积）。

化学气相沉积法。将含有所需薄膜组成元素的气体提供给加热的材料，通过化学反应沉积出极薄的薄膜。

热化学气相沉积

一种利用分解有机物和热能引起的原料气体中的化学反应沉积薄膜的方法，沉积温度为 500-1200 ℃。

血浆 CVD

薄膜是在 300-600 °C 的低温条件下，通过高频、微波等对原料气体进行等离子化处理而沉积在材料表面的。

光学 CVD

薄膜是通过紫外线和激光等光能加速原料气体的分解和反应而沉积的。

PVD：P（物理）V（蒸气）D（沉积）。

物理蒸发法。通过各种方法蒸发所需的薄膜材料，然后使用物理方法将蒸发的材料沉积在裸露的表面上，从而形成极薄的薄膜。

PVD：真空蒸发是一种形成薄膜的方法，通过在真空中加热要沉积的材料，使其蒸发或升华，并将蒸发的材料沉积在物体表面。这种方法常用于金属以外的有机材料，并能生成高纯度的薄膜。附着力较弱。

可通过 PVD 生产的涂层

• TiN：氮化钛 Ti（钛）+ N（氮）
• TiCN：碳氮化钛 Ti（钛）+C（碳）+N（氮） 颜色取决于涂层的分层。
• TiALN：氮化钛铝薄膜 Ti（钛）+ AL（铝）+ N（氮）
• CrN：氮化铬薄膜 Cr（铬）+ N（氮）
• DLC : 像碳一样的钻石 像碳一样的钻石

离子镀

蒸发的材料通过等离子体并撞击到带 + 电荷的物体上，薄膜就沉积下来了。

上图